三井PELLICLE

领先世界的光掩模防尘用薄膜

  • 光学特性
  • 清洁性

概要

三井PELLICLE选择光刻时各种曝光波长具有耐光性的薄膜材料,采用特殊膜厚设计以获得高透光率的光掩模用防尘薄膜。
可保证光掩模清洁,有助于提高半导体生产效率。三井PELLICLE基于经验及技术服务,支持新一代光刻技术。

特点

光学特性

透光率99%以上。通过对原料进行前处理并组合应用旋转涂布技术,确保透光率的均匀性。

清洁性

采用精选材料,避免光照劣化及升华成分导致的异物。在1级无尘室内采用清洁机械手系统进行生产,保证产品的稳定高质量。

膜寿命

通过开发支持不同曝光光波的新材料,使用寿命将更长。

用途

防尘用超薄膜材料(LSI制造工艺)